鄭州云湛科技現貨VICI氣體純化器用于提高載氣純度，以避免影響檢測器靈敏度或損壞毛細柱。Valco純化器（HP2）和氮氣純化器（NP2）采用穩定的吸附性合金作為純化基質，能有效去除如H2O、H2、O2等雜質。HP2適用于He、Ne、Ar等多種惰性氣體，而NP2針對N2氣體。兩者均可在高1000 psig的操作壓力下工作，并具備自動調控功能以保持純化效果

載氣的純化在靈敏度要求高的任何應用中都是的，不純氣體會影響檢測器的靈敏度，甚至損壞毛細柱。Valco純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣。

Valco氣體純化器的純化基質是一種無揮發性、有加熱活化的吸附性合金，此穩定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調控的特征設計，它保持吸附劑材料于溫度，消除了熱量流失的可能性

載氣的純化在靈敏度要求高的任何應用中都是的，不純氣體會影響檢測器的靈敏度，甚至損壞毛細柱。Valco純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣。

Valco氣體純化器的純化基質是一種無揮發性、有加熱活化的吸附性合金，此穩定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調控的特征設計，它保持吸附劑材料于適溫度，消除了熱量流失的可能性

氦氣純化器

*   可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

*   高操作壓強：1000 psig

*   可去除雜質：出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質總量，其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。

*   未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

氮氣純化器

*   可純化氣體：只有N2

*   操作壓強：1000 psig

*   可去除雜質：出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質總量，其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。

*   未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2