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產品中心VICI-Valco閥VICI純化器之HP2-220氦氣（Valco閥）
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純化器之HP2-220氦氣（Valco閥）：鄭州云湛科技儀器現貨進口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣
鄭州旭邁爾儀器現貨進口Valco氦氣純化器（HP2）可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器（NP2）同樣地作用于氮氣
Valco氣體純化器的純化基質是一種無揮發性、有加熱活化的吸附性合金，此穩定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調控的特征設計，它保持吸附劑材料于最適溫度，消除了熱量流失的可能性
純化器之HP2-220氦氣（Valco閥）
氦氣純化器
* 可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
* 最高操作壓強：1000 psig
* 可去除雜質：出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質總量，其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。
* 未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
氮氣純化器
* 可純化氣體：只有N2
* 最高操作壓強：1000 psig
* 可去除雜質：出口雜質低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4，此基于10ppm入口雜質總量，其它去除雜質包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質烴。
* 未被去除雜質：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2
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